机译:优化牛津仪器FlexAL反应器中的氧化物,氮化物和金属的等离子增强原子层沉积工艺
机译:使用金属有机前体(C_(12)H_(23)N_3TI)和N_2等离子体的远程等离子体增强氮化钛膜的原子层沉积
机译:在平面和3D衬底地形上的等离子体增强原子层沉积中衬底偏置氧化物和氮化物的材料性质
机译:通过优化等离子体增强原子层沉积工艺来增强氧化铝层的阻隔性能
机译:氧化物仪器弯曲反应器中氧化物,氮化物和金属氧化物,氮化物和金属的血浆增强原子层沉积方法的优化
机译:在等离子体增强原子层沉积制备的金属氧化物/氧化物界面处的光诱导电荷转移。
机译:通过热和等离子体增强原子层沉积形成的IV组金属氧化物膜的化学稳定性和耐腐蚀性的比较
机译:基于TRIS(二甲基氨基)硅烷前体的SiO2生长速率与金属氧化物底层电阻率的电阻性差异的相关性